Laboratorium materiałowej charakteryzacji mikro- i nanostruktur (MCMN Lab) - Wydział Elektroniki i Technik Informacyjnych PW

Stanowiąca jego wyposażenie nowoczesna aparatura badawcza pozwala prowadzić obserwacje i analizować morfologię (np. topografię, strukturę) powierzchni próbek a także ich skład chemiczny (powierzchniowy i objętościowy).
Umożliwia to badanie istotnych cech zarówno samych materiałów (półprzewodnikowych, dielektrycznych i przewodzących) wykorzystywanych czy dopiero przewidywanych do zastosowań w elektronice, jak i struktur oraz przyrządów z nich wytwarzanych, w tym mikro- i nanoelektronicznych, fotonicznych czy mikrosystemów hybrydowych oraz typu MEMS i MOEMS.

Aparatura:

1. Mikroskop sił atomowych (Atomic Force Microscope – AFM) „DROBNOWIDZ 1” – urządzenie umożliwiające pomiary (oraz ich wizualizację) topografii oraz sygnału tarcia powierzchni (tzw. shear force) w trybie statycznym (kontaktowym). Rozdzielczość pionowa (z) – kilka nm, rozdzielczość pozioma (x-y) < 50 nm. Możliwość rozszerzenia funkcjonalności o dynamiczny tryb pomiaru (tzw. tapping mode, czyli tryb pośredni/przerywany) oraz pomiar własności elektrycznych powierzchni.
2. Profilometr „Dektak 150” VEECO – urządzenie umożliwiające pomiar profilu powierzchni (a więc jej topografii, uskoków) wzdłuż dowolnie wybranej linii. Rozdzielczość pionowa (z) –  kilka nm, rozdzielczość pozioma (x-y) – 1 mm.
3. Skaningowy mikroskop elektronowy (Scanning Electron Microscope – SEM) „S-3400N” HITACHI umożliwiający obserwację topografii i struktury powierzchni. Powiększenie – do 300 000 razy. Rozdzielczość – submikrometrowa. Możliwość obserwacji próbki pod kątem. Niewymagana preparatyka próbek. Możliwość analizy składu pierwiastkowego powierzchni przy pomocy spektroskopu dyspersji energii rentgenowskiej (Energy Dispersive X-ray Spectrometry - EDS).
   
4. Laserowy skaningowy mikroskop konfokalny „LEXT OLS3100” OLYMPUS umożliwiający obrazowanie próbek 2D i 3D. Powiększenie – do 14 400 razy. Rozdzielczość pionowa (z) –  10 nm, rozdzielczość pozioma (x-y) – 120 nm.
5. Spektroskop mas jonów wtórnych (Secondary Ion Mass Spectroscope – SIMS) MILLBROOK MiniSIMS umożliwiający analizę składu chemicznego próbek w trybach statycznym, mapowania powierzchni oraz dynamicznym (trawienie próbki i profilowanie głębokościowe składu chemicznego). Rozdzielczość (f wiązki jonów: < 10mm dla materiałów przewodzących i < 50 mm dla materiałów nieprzewodzących).
6. Wysokoczęstotliwościowy (10 MHz – 13,5 GHz) analizator impedancji „N4395A” AGILENT TECHNOLOGIES wykorzystywany do wyznaczania parametrów elektrofizycznych materiałów elektronicznych w zakresie częstości radiowych (RF) i mikrofalowych (MW) promieniowania elektromagnetycznego.

Laboratorium mieści się w Gmachu Elektrotechniki, kl. A, pok. 421.
Kierownik laboratorium: dr inż. Aleksander Werbowy, e-mail: werbowy@imio.pw.edu.pl
Z-ca kierownika laboratorium: dr inż. Piotr Firek, e-mail: pfirek@elka.pw.edu.pl